发明名称 | 过滤装置、过滤方法以及痕量检测仪器 | ||
摘要 | 本发明涉及一种过滤装置,其包括:壳体,设置有进气口和过滤气体出气口;设置在壳体两端之间的高压电场区域,其电场方向与进气方向垂直;设置在电场区域中的离子化源,用于将从进气口进入的进气中的可电离污染物电离,电离的污染物在电场的作用下向壳体两端运动;和排污装置,用于将移动至壳体两端的电离的污染物排出过滤装置。本发明还涉及一种用于过滤装置的过滤方法,和一种痕量检测仪器。过滤装置空气中的可电离干扰成分电离,然后用电场将被电离的干扰物与其它空气成分相分离,并将干扰物排出过滤装置,从而可以降低耗材的消耗,甚至不需要使用耗材。本发明的过滤装置非常适合使用离子迁移原理进行物质检测的痕量检测仪器。 | ||
申请公布号 | CN102107158A | 申请公布日期 | 2011.06.29 |
申请号 | CN200910243773.1 | 申请日期 | 2009.12.24 |
申请人 | 同方威视技术股份有限公司 | 发明人 | 张阳天;林津 |
分类号 | B03C11/00(2006.01)I | 主分类号 | B03C11/00(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
主权项 | 一种过滤装置,包括:壳体,壳体设置有进气口和过滤气体出气口;设置在壳体两端之间的高压电场区域,其电场方向与进气方向垂直;设置在所述电场区域中的离子化源,用于将从进气口进入的进气中的可电离污染物电离,电离的污染物在电场的作用下向壳体两端运动;和排污装置,用于将移动至壳体两端的电离的污染物排出过滤装置。 | ||
地址 | 100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 |