| 发明名称 | 盖构件，透镜装置和制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种盖构件，透镜装置和制造方法。被安置在光学部件前面的盖构件包括：中心部分；和周边部分。所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连的台阶。所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面。所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面。所述盖构件具有涂布表面。 | ||
| 申请公布号 | CN102109651A | 申请公布日期 | 2011.06.29 |
| 申请号 | CN201010606106.8 | 申请日期 | 2010.12.23 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 佐佐木直喜;佐佐木龙太;加边荣一 |
| 分类号 | G02B7/02(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I | 主分类号 | G02B7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 陈平 |
| 主权项 | 一种被安置在光学部件前面的盖构件，所述盖构件包括：中心部分；和周边部分，所述周边部分包围所述中心部分，同时具有与所述中心部分毗连的台阶；其中所述中心部分在与所述周边部分接界的那一侧的一部分形成为倾斜表面，并且所述倾斜表面的起点和终点中的每一个形成为弯曲表面，并且所述盖构件具有涂布表面。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||