| 摘要 |
1. Установка вакуумной обработки для проведения плазменного процесса, причем эта установка обработки включает в себя по меньшей мере одну вакуумную камеру, в которой размещены устройство для генерирования электрического низковольтного дугового разряда (НВДР), состоящее из катода и анода, электрически соединяемого с катодом через дуговой генератор, и электрически соединяемый с генератором напряжения смещения носитель изделия для приема и перемещения изделий, а также по меньшей мере один ввод для инертного и/или реакционного газа, отличающаяся тем, что по меньшей мере часть поверхности анода изготовлена из графита. !2. Установка вакуумной обработки по п.1, отличающаяся тем, что анод включает в себя графитовую облицовку. ! 3. Установка вакуумной обработки по п.2, отличающаяся тем, что графитовая облицовка выполнена как графитовая вставка, графитовая накладка или как графитовый тигель. ! 4. Установка вакуумной обработки по п.2, отличающаяся тем, что графитовая облицовка размещена на охлаждаемом теле анода. ! 5. Установка вакуумной обработки по п.1, отличающаяся тем, что анод состоит из графита. ! 6. Установка вакуумной обработки по п.1, отличающаяся тем, что анод не охлаждают или охлаждают лишь косвенно, или в непосредственной близости от поверхности анода не предусмотрены никакие охлаждающие приспособления, в частности охлаждающие каналы для охлаждающих сред. ! 7. Установка вакуумной обработки по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере часть графитовой поверхности анода является нагреваемой. ! 8. Установка вакуумной обработки по п.1, отличающаяся тем, что анод размещен на или в одной стороне установки обработки, или о� |
