发明名称 Vertikales Hochvolt-Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Randabschlusses für einen IGBT
摘要 Vertikales Hochvolt-Halbleiterbauelement mit einem eine Halbleiterschicht (3) des einen Leitungstyps aufweisenden Halbleiterkörper (1), der einen inneren Bereich mit einem Zellenfeld (Z) in seiner Vorderseite (4) und einen Randabschluss mit einem den inneren Bereich wenigstens teilweise umgebenden Randbereich (R) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass im Randbereich (R) angrenzend an das Zellenfeld (Z) ein Lateral-Feldeffekttransistor vorgesehen ist, der in eingeschaltetem Zustand des Hochvolt-Halbleiterbauelements zu dessen Stromtragfähigkeit beiträgt und im ausgeschalteten Zustand des Hochvolt-Halbleiterbauelements in vertikaler und lateraler Richtung sperrfähig ist.
申请公布号 DE102006014580(B4) 申请公布日期 2011.06.22
申请号 DE200610014580 申请日期 2006.03.29
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG 发明人 RUEB, MICHAEL, DR.
分类号 H01L29/06;H01L21/331;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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