发明名称 | 一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置 | ||
摘要 | 本发明公开一种烘烤光刻胶的方法,根据每个曝光区域曝光时间的差异,在烘烤工艺环节添加差额时间,使每个曝光区域在曝光和烘烤之间有相同的时间间隔。同时公开了使用该方法的装置。使用本发明公开的烘烤光刻胶的方法及装置,可以有效地减小不同曝光区域之间由于不是同时曝光引起时间延误而造成的烘烤差异,有助于获得更优良的关键尺寸均匀性。 | ||
申请公布号 | CN102103333A | 申请公布日期 | 2011.06.22 |
申请号 | CN200910201295.8 | 申请日期 | 2009.12.17 |
申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 卢士良;段立峰;蔡燕民 |
分类号 | G03F7/38(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/38(2006.01)I |
代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
主权项 | 一种烘烤光刻胶的方法,其特征在于:在烘烤光刻胶的过程中,根据每个曝光区域曝光时间的差异,在烘烤工艺环节添加差额时间,使得硅片各个曝光区域在曝光和烘烤之间有相同的时间间隔。 | ||
地址 | 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 |