发明名称 微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法以及微波透过板
摘要 本发明提供微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法以及微波透过板。微波等离子体处理装置(100),其利用从平面天线(31)的微波放射孔(32)放射的、透过微波透过板(28)的微波在腔室(1)内形成处理气体的等离子体,利用该等离子体对载置于载置台(2)的被处理体(W)实施等离子体处理,其中,微波透过板(28)在其微波透过面的与被处理体的周缘部对应的部分具有凹凸状部(42),与被处理体(W)的部对应的部分形成为平坦部(43)。
申请公布号 CN101681833B 申请公布日期 2011.06.22
申请号 CN200880020112.6 申请日期 2008.06.10
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 佐藤吉宏;小林岳志;盐泽俊彦;田村大辅
分类号 H01L21/31(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I;H01L21/318(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I 主分类号 H01L21/31(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种微波等离子体处理装置,其利用微波形成处理气体的等离子体,利用该等离子体对被处理体实施等离子体处理,该微波等离子体处理装置的特征在于,包括:收容被处理体的腔室;在所述腔室内载置被处理体的载置台;产生微波的微波产生源;向所述腔室内导入由微波产生源产生的微波的波导机构;由导体构成的平面天线,其具有向所述腔室放射被所述波导机构引导的微波的多个微波放射孔;下表面成为微波透过面的由电介质构成的微波透过板,其构成所述腔室的顶壁,并且使通过所述平面天线的微波放射孔的微波透过;和向所述腔室内供给处理气体的处理气体供给机构,所述微波透过板中,所述微波透过面的与被处理体的中央部对应的部分成为未形成凹凸的平坦部,在所述微波透过面的至少与包括从被处理体的所述中央部至外侧的边缘的区域的部分对应的部分,具有形成有凹凸的凹凸状部,所述平坦部的直径为被处理体的直径的50~80%。
地址 日本东京