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一种使离开聚合反应器之再循环惰性气体流进行纯化以去除有机杂质之方法，其包含：将氧气或含氧气体添加至该气体流；在一氧化反应器中于低于300℃之温度下使该气体流与含有包括铂之金属的催化剂相接触，该催化剂包含0.1至5.0重量%之铂，至少70重量%之铂处于还原状态，其中所添加之氧量关于该等有机杂质大体上为化学计量，以使来自该氧化反应器之气体排出物含有不多于250 ppm之氧气；且将该气体排出物再循环至该聚合反应器。如请求项1之方法，其特征为该聚合反应器为用于芳族聚酯树脂之固态缩聚或聚合反应器。如请求项1或2之方法，其特征为该铂系浸渍在该催化剂上。如请求项1或2之方法，其特征为至少90重量%之该金属处于还原态。如请求项1或2之方法，其特征为该反应温度不高于250℃。如请求项1或2之方法，其特征为该惰性气体为氮气或包括氮气。如请求项1或2之方法，其特征为该载体为活性氧化铝。如请求项1或2之方法，其特征为该催化剂包括0.1重量%至2.0重量%之铂。如请求项1或2之方法，其特征为该铂分散于该催化剂之表面上。如请求项1或2之方法，其特征为来自该反应器之排出物含有不多于100 ppm之氧。 |
