发明名称 平面显示器用的化学气相沈积装置
摘要
申请公布号 TWI344174 申请公布日期 2011.06.21
申请号 TW096103674 申请日期 2007.02.01
申请人 SFA工程股份有限公司 发明人 金南珍;李相;张祥来
分类号 H01L21/205;C23C16/54 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种平面显示器用的化学气相沈积装置,包括:基座,安装在反应室中且具有上表面,在所述上表面上载入经受沈积的所述平面显示器,所述基座包括:基板载入部分,水平地配置在所述反应室中并支撑所述平面显示器;以及支柱,具有固定在所述基板载入部分的中心处的上端以及穿过所述反应室的下壁并配置在所述反应室外部的下端;以及冷却部分,掩埋在所述基座载入部分的内表面中,用以强行冷却在沈积制程期间被加热的所述基座,所述冷却部分包括冷却线路;以及接触构件,所述接触构件提供在所述冷却线路的外表面与所述基板载入部分之间,并接触所述冷却线路以及所述基板载入部分中的每一者。如申请专利范围第1项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述冷却部分更包括:冷却空间部分,形成在所述基板载入部分中,且上述冷却线路,插在所述冷却空间部分中,预定的冷却剂通过所述冷却线路进行循环。如申请专利范围第2项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中在所述反应室的维护以及修理工作期间,所述冷却剂通过所述冷却线路进行循环。如申请专利范围第3项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述冷却线路具有回路形状,所述回路形状配置在所述基板载入部分的整个区域中。如申请专利范围第4项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述冷却线路配置在加热器线路之间,所述加热器线路提供在所述基板载入部分中,并在所述沈积制程期间加热所述基板载入部分。如申请专利范围第1项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述接触构件是金属线,所述金属线缠绕在所述冷却线路的所述外表面周围。如申请专利范围第6项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述金属线的材料是不锈钢。如申请专利范围第1项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中预定的所述冷却剂是水以及氮气中的任一者。如申请专利范围第1项所述之平面显示器用的化学气相沈积装置,其中所述平面显示器是用于液晶显示器的大玻璃基板。
地址 南韩