| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备的照明系统 | ||
| 摘要 | 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括光栅元件(72)，其被配置为产生位于系统光瞳面(70)中的多个二次光源(95)。所述光栅元件(72)具有多个光入射面(92)，每个光入射面(92)与所述二次光源(95)之一关联。光束偏转装置包括反射或透射光束偏转元件(Mij)的光束偏转阵列(46)，每个光束偏转元件(Mij)被配置为在可以通过改变由所述光束偏转元件(Mij)产生的偏转角度而改变的位置处，照明所述光入射面(92)之一上的光斑(90)。控制单元(50)被配置为控制所述光束偏转元件(Mij)，使得可以在所述多个光入射面(92)的至少一个上形成由所述光斑(80)组合的可变光图案(LP)。 | ||
| 申请公布号 | CN102099743A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200980127435.X | 申请日期 | 2009.06.25 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 马库斯·德冈瑟 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B19/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括：a)一次光源(30)，b)系统光瞳面(70)，c)掩模平面(86)，其中可以布置要被照明的掩模(16)，d)光栅元件(72)，其被配置为产生位于所述系统光瞳面(70)中的多个二次光源(95)，其中所述光栅元件(72)具有多个光入射面(92)，每个所述光入射面(92)与所述二次光源(95)之一关联，e)光束偏转装置，其包括反射或透射光束偏转元件(Mij)的光束偏转阵列(46)，其中每个光束偏转元件(Mij)被配置为在通过改变由所述光束偏转元件(Mij)产生的偏转角度而可变的位置处，照明所述光入射面(92)之一上的光斑(90)，f)控制单元(50)，其被配置为控制所述光束偏转元件(Mij)，使得可以在所述多个光入射面(92)的至少一个上形成由所述光斑(80)组合的可变光图案(LP)。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||