发明名称 | 使用超声波的清洗设备 | ||
摘要 | 在此公开一种使用超声波的清洗设备。该清洗设备用于从晶片上分离污染物,所述设备包括:其中容纳有振动器的壳体;以及杆,该杆连接到所述振动器的表面,以使由所述振动器产生的超声波传播到施加在所述晶片的上表面上的清洗溶液。所述振动器包括压电装置,该压电装置结合到包括近场区域和远场区域的扩散层。所述杆具有直径减小部分,以放大由所述振动器产生的超声波,从而能够有效地去除需要清洗的所述晶片上的污染物。 | ||
申请公布号 | CN101516533B | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
申请号 | CN200780035371.1 | 申请日期 | 2007.08.17 |
申请人 | 韩国机械研究院 | 发明人 | 李阳来;林义洙;金贤世 |
分类号 | B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人 | 周建秋;王凤桐 |
主权项 | 一种使用超声波的清洗设备,该设备包括:管;壳体,该壳体连接到所述管的端部,并且所述壳体垂直于需要清洗的晶片而设置并与所述晶片保持间隙;以及振动器,该振动器设置在所述壳体内的面对所述晶片的位置上,并用于产生超声波,所述振动器包括压电装置,该压电装置结合到超声波发射器和扩散层中的任意一个的表面。 | ||
地址 | 韩国大田广域市 |