发明名称 |
薄膜晶体管及其制造方法 |
摘要 |
一种制造薄膜晶体管的方法,包括:提供一基板,并在基板上沉积一第一导体层;利用第一道掩膜配合光刻蚀刻工艺对所述第一导体层进行蚀刻,形成栅极以及扫描线;在该形成有栅极的基板上沉积一第一绝缘层,并在该第一绝缘层上沉积一第二导体层;利用第二道掩膜配合光刻蚀刻工艺对所述第二导体层进行蚀刻,同时形成源极、漏极以及沟道层。本发明还提供一种利用该方法制造的薄膜晶体管,本发明的薄膜晶体管及其制造方法,无需复杂的制程即可制造出较高质量的薄膜晶体管。 |
申请公布号 |
CN102097489A |
申请公布日期 |
2011.06.15 |
申请号 |
CN201010592209.3 |
申请日期 |
2010.12.16 |
申请人 |
富泰华工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
林贤达 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种薄膜晶体管,包括基板以及形成于该基板上的栅极,该基板为一长方体结构,具有长边和窄边,该栅极位于该基板表面的中心且沿基板的长边方向延伸,其特征在于,该薄膜晶体管还包括:第一绝缘层,该第一绝缘层覆盖于该栅极上,该第一绝缘层与该基板配合形成一封闭结构将栅极封闭于其中;源极;漏极;以及沟道层;其中,该源极和漏极均为台阶结构,且以栅极的垂直中心线为轴对称设置在靠近基板窄边的位置,该沟道层数量为两个,为棱形结构,分别位于源极和漏极之间的第一绝缘层上,每一沟道层均与源极和漏极分别电连接。 |
地址 |
518109 广东省深圳市广东省深圳市宝安区观澜街道大三社区富士康观澜科技园B区厂房4栋、6栋、7栋、13栋(I段) |