发明名称 薄膜晶体管及其制造方法
摘要 一种制造薄膜晶体管的方法,包括:提供一基板,并在基板上沉积一第一导体层;利用第一道掩膜配合光刻蚀刻工艺对所述第一导体层进行蚀刻,形成栅极以及扫描线;在该形成有栅极的基板上沉积一第一绝缘层,并在该第一绝缘层上沉积一第二导体层;利用第二道掩膜配合光刻蚀刻工艺对所述第二导体层进行蚀刻,同时形成源极、漏极以及沟道层。本发明还提供一种利用该方法制造的薄膜晶体管,本发明的薄膜晶体管及其制造方法,无需复杂的制程即可制造出较高质量的薄膜晶体管。
申请公布号 CN102097489A 申请公布日期 2011.06.15
申请号 CN201010592209.3 申请日期 2010.12.16
申请人 富泰华工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 林贤达
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种薄膜晶体管,包括基板以及形成于该基板上的栅极,该基板为一长方体结构,具有长边和窄边,该栅极位于该基板表面的中心且沿基板的长边方向延伸,其特征在于,该薄膜晶体管还包括:第一绝缘层,该第一绝缘层覆盖于该栅极上,该第一绝缘层与该基板配合形成一封闭结构将栅极封闭于其中;源极;漏极;以及沟道层;其中,该源极和漏极均为台阶结构,且以栅极的垂直中心线为轴对称设置在靠近基板窄边的位置,该沟道层数量为两个,为棱形结构,分别位于源极和漏极之间的第一绝缘层上,每一沟道层均与源极和漏极分别电连接。
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