发明名称 | 真空进样室 | ||
摘要 | 提供一种可防止真空变形的真空进样室。真空进样室包括第一腔室、第二腔室及上盖。第一腔室包括第一底板和从第一底板垂直延伸的四个第一侧壁,在四个第一侧壁中的相互对置的两个第一侧壁上,形成有用于基板的搬入及搬出的第一狭槽。第二腔室包括第二底板和从第二底板垂直延伸的四个第二侧壁,并且,该第二腔室以使其呈开口状的上部位于第一腔室侧的方式同第一腔室结合。在四个第二侧壁中的相互对置的两个第二侧壁上,形成有用于基板的搬入及搬出的第二狭槽。第二腔室包括第一加强肋,其从形成有第二狭槽的两个第二侧壁上端向内侧方向延伸。上盖覆盖第一腔室的呈开口状的上部。由此,可以最大限度地防止层叠的单位腔室之间的压力差所导致的真空变形。 | ||
申请公布号 | CN102097289A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
申请号 | CN201010124239.1 | 申请日期 | 2010.03.15 |
申请人 | TES股份有限公司 | 发明人 | 李敦熙;金范城;河周一;马熙铨;金东建;卢东珉 |
分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 陈英俊 |
主权项 | 一种真空进样室,其特征在于,包括:第一腔室,包括第一底板和从所述第一底板垂直延伸的四个第一侧壁,在所述四个第一侧壁中的相互对置的两个第一侧壁上,形成有用于基板的搬入及搬出的第一狭槽;第二腔室,包括第二底板和从所述第二底板垂直延伸的四个第二侧壁,并且,该第二腔室以使其呈开口状的上部位于所述第一腔室侧的方式同所述第一腔室结合,在所述四个第二侧壁中的相互对置的两个第二侧壁上,形成有用于基板的搬入及搬出的第二狭槽,还包括从形成有所述第二狭槽的两个第二侧壁的上端向内侧方向延伸的第一加强肋;以及上盖,覆盖所述第一腔室的呈开口状的上部。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |