发明名称 | 一种深地坑施工方法及地坑结构 | ||
摘要 | 本发明公开了一种深地坑施工方法及地坑结构。该方法是在地坑的底部设置底梁,在底梁的两端浇铸与底梁连接为一体的扶壁柱;然后再在底梁上部和扶壁柱内侧浇铸底板和壁板。本发明的结构包括垫层(6),垫层(6)上设有底梁,底梁上对称设有扶壁柱(3);在底梁上方设有底板(2),在扶壁柱(3)内侧设有壁板(1)。采用本发明,其底板和壁板都不用做的像现有技术要求的那么厚了,可节约用料。由于扶壁柱与底梁的两端是一次浇铸成一体的,因此扶壁柱的基础不用做的很大就有足够的抗挤压能力。本发明还具有设计计算简单,施工方便,工期短,并且抗侧土压力大的特点。 | ||
申请公布号 | CN102094427A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
申请号 | CN200910261476.X | 申请日期 | 2009.12.10 |
申请人 | 贵阳铝镁设计研究院 | 发明人 | 翁周;杨华 |
分类号 | E02D17/04(2006.01)I | 主分类号 | E02D17/04(2006.01)I |
代理机构 | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人 | 刘楠 |
主权项 | 一种深地坑施工方法,其特征在于:该方法是在地坑的底部设置底梁,在底梁的两端浇铸与底梁连接为一体的扶壁柱;然后再在底梁上部和扶壁柱内侧浇铸底板和壁板。 | ||
地址 | 550004 贵州省贵阳市北京路208号 |