| 主权项 |
一种在物体上形成图案的曝光设备，该曝光设备包含：一曝光头结构，其中系排列有用以曝光该物体的复数个基本曝光单元，该复数个基本曝光单元各包括：(i)至少一光源用以发出曝光用之光；以及(ii)在该物体上形成该至少一光源之一影像的一光学元件；一感测器，其侦测在垂直于该表面的方向中，该物体的该表面位置并产生一侦测结果；以及一控制器，其接收来自该感测器的该侦测结果并控制该曝光头结构，使得一图案系为该曝光所形成在该物体上，同时，该等复数基本曝光单元之一系被选择以基于该感测器之该侦测结果来曝光该物体，该等复数基本曝光单元可形成该影像同时满足给定曝光条件，其中该等复数基本曝光单元系在曝光该物体前加以调整，使得由该等复数基本曝光单元的该至少一光源所形成的该等影像的位置在垂直于该物体表面的方向中变化，以包括复数彼此不同的位置。如申请专利范围第1项之设备，其中该光学元件以一预定放大率在该物体上形成该光源之该影像。如申请专利范围第2项之设备，其中该放大率为相等放大率或缩小放大率。如申请专利范围第1项之设备，更包括冷却该至少一光源的一冷却单元。如申请专利范围第1项之设备，其中该控制器脉冲驱动该至少一光源以发出依时离散(temporally discrete)脉冲光。如申请专利范围第1项之设备，其中该至少一光源包括一发光二极体元件。如申请专利范围第1项之设备，其中该至少一光源包括一电致发光(EL)元件。如申请专利范围第1项之设备，其中包含在各个基本曝光单元中的该至少一光源系被群集为一列，在各个基本曝光单元中的各个顺序光源间之距离为固定，及在一基本曝光单元中之该列中之最后光源与在顺序下一基本曝光单元的该列中之第一光源间之距离系大于在各个基本曝光单元中之该列中之各个顺序光源间之距离。如申请专利范围第1项之设备，其中该至少一光源的该等影像系使用该光学元件形成在该物体上。如申请专利范围第1项之设备，其中该至少一光源包括分别具有不同发光波长的复数个类型之光源。一种装置制造方法，该方法包含以下步骤：使用如申请专利范围第1项中所定义的曝光设备在一基板上形成一图案，以及使具有该图案形成于其上之该基板显影，以制造装置。 |
