用以处理腐蚀性气体之洁净剂及其净化方法

主权项

一种用以处理腐蚀性气体之洁净剂，包括：一载体成份，包含铁镁氧化物；以及一活性成份，包含氢氧化锶，其中该铁镁氧化物中铁：镁之原子比为10：1至1：10，该载体成份占该洁净剂50~90重量%，以及该活性成份占该洁净剂10~50重量%。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该铁镁氧化物之比表面积(BET)为50m2/g以上。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该活性成份更包括：氧化铈或氧化锰。如申请专利范围第3项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该活性成份中氢氧化锶：氧化铈或氧化锰之莫耳比为10：1至1：10。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，更包括一助塑剂。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，更包括一黏合剂。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该腐蚀性气体包括：含硼及卤化合物气体。如申请专利范围第7项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该腐蚀性气体包括：三氟化硼、三氯化硼、氟气、氯气、氟化氢、氯化氢、溴化氢、四氟化矽、或前述之组合。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该腐蚀性气体系来自乾蚀刻、薄膜沉积、或离子布植之制程废气。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该洁净剂对腐蚀性气体之吸附容量大于40 L/kg ads。如申请专利范围第1项所述之用以处理腐蚀性气体之洁净剂，其中该洁净剂对含硼气体之吸附容量大于70 L/kg ads。一种处理腐蚀性气体之净化方法，包括：将一腐蚀性气体接触一洁净剂，以降低该腐蚀性气体之浓度，其中该洁净剂之组成包括：一载体成份，包含铁镁氧化物；以及一活性成份，包含氢氧化锶，其中该铁镁氧化物中铁：镁之原子比为10：1至1：10，该载体成份占该洁净剂50~90重量%，该活性成份占该洁净剂10~50重量%。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该腐蚀性气体包括：含硼及卤化合物气体。如申请专利范围第13项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该腐蚀性气体包括：三氟化硼、三氯化硼、氟气、氯气、氟化氢、氯化氢、溴化氢、四氟化矽、或前述之组合。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该腐蚀性气体系来自乾蚀刻、薄膜沉积、或离子布植之制程废气。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该洁净剂对腐蚀性气体之吸附容量大于40 L/kg ads。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该洁净剂对含硼气体之吸附容量大于70 L/kg ads。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该铁镁氧化物之比表面积(BET)为50m2/g以上。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该活性成份更包括：氧化铈或氧化锰。如申请专利范围第19项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该活性成份中氢氧化锶：氧化铈或氧化锰之莫耳比为10：1至1：10。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该洁净剂更包括一助塑剂。如申请专利范围第12项所述之处理腐蚀性气体之净化方法，其中该洁净剂更包括一黏合剂。