发明名称 方法、对齐标记和硬掩模材料的使用
摘要 在一种用于生产对齐标记的方法中,氧化物层和牺牲层被处理以包含凹槽。所述凹槽由填充材料填充。在填充凹槽的过程中,一层填充材料形成在牺牲层上。所述填充材料层通过化学机械抛光去除。所述牺牲层在填充凹槽和去除填充材料层的过程中保护所述氧化物层。然后通过刻蚀去除牺牲层。这提供了一种具有凸起的氧化物层。具有凸起的氧化物层覆盖有导电层,由此所述凸起刺穿氧化物层以形成相关的凸起。所述相关的凸起形成对齐标记。
申请公布号 CN101162368B 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200710180926.3 申请日期 2007.10.09
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 理查德·约翰尼斯·弗郎西斯克斯·范哈恩;埃维哈德斯·康尼利斯·摩斯
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种光刻方法,包括步骤:提供具有第一侧的衬底(1000),所述第一侧具有第一层(1010);在所述第一层上沉积牺牲层(1020);在牺牲层上形成至少延伸入第一层的一个或多个凹槽(1030);在所述一个或多个凹槽中沉积填充材料,由此也在所述牺牲层上形成由填充材料构成的第二层(1040);采用第二工艺从牺牲层去除第二层;以及通过采用避免刮伤所述第一层的第一工艺去除所述牺牲层,其中,所述一个或多个凹槽中的每个都具有在牺牲层中延伸的第一部分(1050),设置牺牲层(1020)、填充材料、第一工艺和第二工艺,以将填充材料以适当的位置保持在所述凹槽的第一部分中;其特征在于:确定第一组的至少一个第一部件的一个或多个特征(1060)的对齐位置,所述第一组包括衬底、第一层(1010)和牺牲层(1020);以预先确定的到一个或多个特征的对齐位置的距离,形成所述一个或多个凹槽(1030);在暴露的、未刮伤的第一层上沉积不透明的第三层(1070),所述不透明的第三层具有面对但远离衬底的自由表面(1100),由此形成多个凸起(1090),其中所述多个凸起具有与同所述凹槽的所述第一部分关联的位置相对应的关联位置。
地址 荷兰维德霍温