发明名称 | 校正两参数谱的方法 | ||
摘要 | 本发明涉及信号处理领域,特别涉及X射线或伽马射线光谱测定法。本发明还涉及用于校正两参数谱的方法和改进的处理装置。 | ||
申请公布号 | CN1961220B | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
申请号 | CN200580014092.8 | 申请日期 | 2005.04.21 |
申请人 | 核材料总公司 | 发明人 | 纪尧姆·蒙特蒙 |
分类号 | G01T1/29(2006.01)I | 主分类号 | G01T1/29(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李春晖;李德山 |
主权项 | 一种用于处理两参数谱的方法,包括以下步骤:‑在所述谱的参数中选择第一谱图参数,‑选择初始的校正函数,‑选择所述第一谱图参数的第一值并且选择与所述第一值相对应的第一谱图,‑通过使所述第一谱图乘以所述初始的校正函数来执行至少第一校正操作,以获得经校正的第一谱图,‑通过使所述经校正的第一谱图与所述初始的校正函数相加来形成校正函数,‑执行迭代处理,包括:‑选择所述第一谱图参数的第二值并且选择与所述第二值相对应的第二谱图,‑通过使所述第二谱图乘以另一校正函数来执行至少另一校正操作,所述另一校正函数等于前次形成的校正函数与前次经校正的谱图之和。 | ||
地址 | 法国韦利济-维拉库布莱 |