| 发明名称 | 薄膜形成方法 | ||
| 摘要 | 在接近大气压的压力气氛的条件下，使用等离子体在基板上形成薄膜时，即使将电极和基板之间的间隙设定得比以往宽，也可以抑制反应气体反应而产生的微粒，且稳定地形成均质的薄膜。通过向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极(12)供给电力，从而在所述旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙中生成等离子体，使用生成的等离子体，使所供给的反应气体(G)活化而在基板(S)上形成薄膜时，使旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙宽度为2mm～7mm，向旋转电极(12)供给频率为100kHz～1GHz的高频电力。 | ||
| 申请公布号 | CN101528978B | 申请公布日期 | 2011.05.25 |
| 申请号 | CN200780022302.7 | 申请日期 | 2007.06.14 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 青峰信孝;青嶋有纪;林和志;钉宫敏洋;古保里隆 |
| 分类号 | C23C16/505(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/505(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 刘多益 |
| 主权项 | 薄膜形成方法，它是通过在900hPa以上的压力气氛中向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极供给电力，从而在所述旋转电极和基板之间的间隙中生成等离子体，使用生成的等离子体，通过所供给的反应气体的化学反应而在基板上形成薄膜的薄膜形成方法，其特征在于，所述旋转电极和基板之间的间隙宽度为2mm～7mm，向所述旋转电极供给频率为100kHz～1MHz的高频电力。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||