发明名称 |
一种空气隙石墨烯晶体管及其制备方法 |
摘要 |
本发明属于碳基集成电路制造技术领域,具体为一种空气隙石墨烯晶体管及其制备方法。先在硅衬底上生长栅电极、栅介质,并形成源、漏图形,再将石墨烯转移到已经形成的源、漏图形上,从而实现石墨烯与栅介质的隔离。利用空气隙将石墨烯和栅介质隔离开,可以免去石墨烯上的缓冲层生长工艺,最大程度地保留石墨烯中载流子的高迁移率,降低石墨烯表面特性的退化,从而进一步提高石墨烯器件的电学特性。 |
申请公布号 |
CN102074584A |
申请公布日期 |
2011.05.25 |
申请号 |
CN201010573965.1 |
申请日期 |
2010.12.06 |
申请人 |
复旦大学 |
发明人 |
孙清清;江婷婷;王鹏飞;张卫;江安全 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
陆飞;盛志范 |
主权项 |
一种空气隙石墨烯晶体管,其特征在于包括:一个半导体衬底;位于所述半导体衬底上的第一绝缘体层;位于所述第一绝缘体层之上的栅电极;位于所述栅电极之上的第二绝缘体层;位于所述第二绝缘体层之上的源、漏电极;位于所述源、漏电极之上的石墨烯层;所述的石墨烯层与所述第二绝缘体层、所述栅电极通过空气隙相隔离。 |
地址 |
200433 上海市杨浦区邯郸路220号 |