发明名称 |
COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION |
摘要 |
A compound shown by the following formula (1).
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申请公布号 |
US2011117489(A1) |
申请公布日期 |
2011.05.19 |
申请号 |
US20080673167 |
申请日期 |
2008.07.30 |
申请人 |
JSR CORPORATION |
发明人 |
SHIMIZU DAISUKE;MARUYAMA KEN;KAI TOSHIYUKI;SHIMOKAWA TSUTOMU |
分类号 |
G03F7/004;C07C69/734;C07C69/96 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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