发明名称 |
双向晶闸管以及静电保护电路 |
摘要 |
本发明提供了双向晶闸管以及静电保护电路,其中双向晶闸管包括:P型半导体衬底;形成于半导体衬底内的第一N阱、P阱以及第二N阱;所述P阱分别与第一N阱以及第二N阱相邻;形成于第一N阱内且相互隔离的第一N+型注入区、第一P+型注入区,形成于第二N阱内且相互隔离的第二N+型注入区、第二P+型注入区;所述第一N+型注入区与第一P+型注入区连接阳极,第二N+型注入区与第二P+型注入区连接阴极;形成于P阱内且相互隔离的第一N+型连接区、第二N+型连接区,所述第一N+型连接区与第一N阱相邻,第二N+型连接区与第二N阱相邻。本发明晶闸管具有双向导电的能力,且触发电压较低,使得静电保护电路具有较强的静电保护能力。 |
申请公布号 |
CN102054860A |
申请公布日期 |
2011.05.11 |
申请号 |
CN200910198356.X |
申请日期 |
2009.11.05 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
单毅;何军 |
分类号 |
H01L29/747(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/747(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
一种双向晶闸管,其特征在于,包括:P型半导体衬底;形成于半导体衬底内的第一N阱、P阱以及第二N阱;所述P阱分别与第一N阱以及第二N阱相邻;形成于第一N阱内且相互隔离的第一N+型注入区、第一P+型注入区,形成于第二N阱内且相互隔离的第二N+型注入区、第二P+型注入区;所述第一N+型注入区与第一P+型注入区连接阳极,第二N+型注入区与第二P+型注入区连接阴极;形成于P阱内且相互隔离的第一N+型连接区、第二N+型连接区,所述第一N+型连接区与第一N阱相邻,第二N+型连接区与第二N阱相邻。 |
地址 |
201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 |