发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE SURFACE OF A SUBSTRATE |
摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Behandlung einer Substratoberseite eines flachen Substrats mit einer Ätzlösung, die HF enthält, werden die Substrate horizontal liegend von oben damit benetzt. Dies erfolgt derart, dass die nach oben weisende Substratoberseite nur einmal mit der Ätzlösung vollflächig benetzt bzw. bedeckt wird und diese dann dort verbleibt für die Dauer der Behandlung, wobei sie zum Abschluss entfernt wird. Das Aufbringen erfolgt vorteilhaft so, dass die Ätzlösung mit möglichst wenig Bewegung bzw. Strömung aufgebracht wird, beispielsweise mit Schwallrohren aus geringer Höhe, und dort ruhig verbleibt.</p> |
申请公布号 |
WO2011051356(A1) |
申请公布日期 |
2011.05.05 |
申请号 |
WO2010EP66287 |
申请日期 |
2010.10.27 |
申请人 |
GEBR. SCHMID GMBH & CO.;HAVERKAMP, HELGE;REUTTER, ERICH;KIENINGER, KAY;STEIN, FRIEDHELM |
发明人 |
HAVERKAMP, HELGE;REUTTER, ERICH;KIENINGER, KAY;STEIN, FRIEDHELM |
分类号 |
H01L21/00;H01L21/677 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|