| 发明名称 | 烫发剂 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种能够同时烫发和染发的烫发剂。该烫发剂包含：(i)包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料的烫发第一试剂：其中X为选自-O-、-S-、-NH-和-NR1-的结构；R1为具有1-6个碳原子的烷基；R2为氢原子或具有1-6个碳原子的烷基；Y为氧原子或硫原子；R为任选具有巯基的二价有机残基；和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。 | ||
| 申请公布号 | CN101175535B | 申请公布日期 | 2011.05.04 |
| 申请号 | CN200680016139.9 | 申请日期 | 2006.05.12 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 涩谷彰;蒲池元昭 |
| 分类号 | A61Q5/04(2006.01)I;A61Q5/10(2006.01)I;A61Q5/06(2006.01)I;A61K8/49(2006.01)I | 主分类号 | A61Q5/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种烫发剂，其包含：(i)烫发第一试剂，其包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料：<img file="FSB00000134044500011.GIF" wi="680" he="421" />其中X是-O-；R<sup>2</sup>为氢原子；Y为氧原子；R为任选具有巯基的、具有2-6个碳原子的亚烷基；和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||