发明名称 |
形成有类金刚石碳薄膜的材料及用于制造该材料的方法 |
摘要 |
形成有类金刚石碳薄膜的材料及用于制造该材料的方法,一种形成有DLC薄膜的材料(10),其中中间层(14)被设置在基材(12)与DLC薄膜(16)之间。该中间层(14)是包含类金刚石碳和来自基材(12)的组分金属原子的复合层。例如,该中间层(14)可通过如下步骤形成:在等离子体层形成工艺中,将负偏压施加到基材(12)上,同时随时间降低负偏压的绝对值。碳靶或烃类气体可用作碳源。 |
申请公布号 |
CN102041473A |
申请公布日期 |
2011.05.04 |
申请号 |
CN201010533692.8 |
申请日期 |
2010.10.22 |
申请人 |
光田好孝;SMC株式会社 |
发明人 |
光田好孝;野濑健二;森久祐弥 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
上海市华诚律师事务所 31210 |
代理人 |
梅高强;杜娟 |
主权项 |
一种形成有类金刚石碳薄膜的材料(10),其包括基材(12)和形成于基材(12)表面上的类金刚石碳薄膜(16),在基材(12)与类金刚石碳薄膜(16)之间具有中间层(14),其中,所述中间层(14)是包含类金刚石碳和来自所述基材(12)的组分金属原子的复合层。 |
地址 |
日本国东京都目黑区驹场4丁目6番1号东京大学生产技术研究所内 |