| 主权项 |
一种供应系统，用以提供一工作流体，该供应系统包括：一存取装置，用以存取该工作流体，该存取装置具有一连接埠；一第一增能器，提供一第一能量对于储存于该存取装置中之该工作流体，藉此将气泡自该工作流体中排出；一第二增能器，提供一第二能量对于储存于该存取装置中之该工作流体，藉此将该工作流体自该存取装置之该连接埠进行排出；一输出装置，连接于该存取装置，该输出装置系用以接收来自于该存取装置之该工作流体且对于该工作流体进行输出；以及一第三增能器，提供一第三能量对于流经该存取装置、该输出装置之该工作流体进行加热。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一中间装置，该中间装置系设置于该存取装置与该输出装置之间，该中间装置系用以存取来自于该存取装置之该连接埠所排出之该工作流体且该工作流体中之该气泡进行过滤。如申请专利范围第2项所述之供应系统，其中，该中间装置包括一室结构与一过滤单元，该室结构系用以存取来自于该存取装置之该连接埠所排出之该工作流体，并且该过滤单元系用以对于来自于该室结构之该工作流体中之气泡进行过滤。如申请专利范围第3项所述之供应系统，其中，该过滤单元系为一可透析薄膜。如申请专利范围第2项所述之供应系统，更包括一循环装置，该循环装置系设置于该存取装置与该中间装置之间，藉此可将该中间装置之该工作流体传递至该存取装置。如申请专利范围第2项所述之供应系统，其中，该中间装置系可产生一既定压力，并且该输出装置系位于一环境压力之中，该既定压力系大于该环境压力，藉由该既定压力与该环境压力之一压力差对于该中间装置与该输出装置之间之该工作流体进行驱动。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该第一增能器系邻接设置于该存取装置。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该第一增能器包括具有超音波振荡之一磁石搅拌加热装置，该磁石搅拌加热装置系提供具有热能与动能之该第一能量，藉以对该存取装置中之该工作流体进行加热、搅拌与振荡。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一排放装置，该排放装置系连接于该存取装置且用以吸收来自于该存取装置中之该工作流体中之该气泡。如申请专利范围第9项所述之供应系统，其中，该排放装置包括一吸取单元与一开关，该吸取单元系连接于该存取装置，该开关系设置于该存取装置与该吸取单元之间。如申请专利范围第10项所述之供应系统，其中，该开关系为一电磁控制开关。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该第二增能器包括一压力产生装置，该压力产生装置系提供具有压力之该第二能量，藉此以对于该存取装置中之该工作流体进行传输。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该输出装置包括一头部，过滤后之该工作流体系经由该头部而输出。如申请专利范围第13项所述之供应系统，其中，该输出装置之该头部系具有一喷头结构，该喷头结构包括复数喷头与一维持装置，其中，该等喷头系可相对于一参考轴进行排列，并且各该喷头系具有一相对移动座标系，该喷头系可相对于该相对移动座标系而进行调整，而该维持装置系用以对于调整后之该等喷头进行定位。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该第三增能器系提供具有热力之该第三能量，藉此以对于该工作流体进行加热。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一监控装置，该监控装置系用以对于该工作流体之温度与压力进行监控。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该存取装置系具有一第一温度，并且该工作流体系具有一第二温度，当该工作流体注入该存取装置时，该存取装置之该第一温度与该工作流体之该第二温度之间系具有一温度差。如申请专利范围第17项所述之供应系统，其中，该温度差系不小于0℃。如申请专利范围第17项所述之供应系统，其中，该温度差系不大于工作流体之沸点与凝固点的差。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一驱动电路，该驱动电路系电性连接于该第一增能器、该第二增能器、该第三增能器与该输出装置。如申请专利范围第1项所述之供应系统，其中，该存取装置更包括一容器，该容器系连接于该连接埠且用以存取该工作流体。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一液面感测器，该液面感测器系对于该工作流体之液面进行感测。如申请专利范围第1项所述之供应系统，更包括一温度感测器，该温度感测器系于该工作流体之温度进行感测。 |
