发明名称 一种均匀进液的电解槽结构
摘要 本实用新型涉及一种均匀进液的电解槽结构,主要结构包括槽体和进液支管。位于槽体内的进液支管的末端垂直设置有分流管,分流管的底部均匀开设有一个或一个以上的分流孔,进液支管设置在槽体的内壁上。由进液支管循环回槽体内的电解液被分流管分流,并均匀注入到电解槽内。本实用新型具有结构简单,并且能实现向槽体内提供均匀的电解液,让电解槽获得均匀分布的铜离子,提高产品质量,简化设备结构,降低设备投入,降低企业成本等优点。
申请公布号 CN201809457U 申请公布日期 2011.04.27
申请号 CN201020282276.0 申请日期 2010.08.04
申请人 肇庆市飞南金属有限公司 发明人 钱春陵;孙启航
分类号 C25C7/00(2006.01)I;C25C1/12(2006.01)I 主分类号 C25C7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种均匀进液的电解槽结构,主要结构包括槽体(1)和进液支管(2),其特征在于进液支管(2)末端垂直设置有分流管(3),分流管(3)的底部均匀开设有一个或一个以上的分流孔(4)。
地址 526233 广东省四会市罗源镇罗源工业园
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