| 发明名称 | 用于散射校正的方法和设备 | ||
| 摘要 | 提供了一种校正光子散射的图像重建方法和设备。结合光子散射过程的物理模型使用散射光子的直接物理测量以进行校正。 | ||
| 申请公布号 | CN102037495A | 申请公布日期 | 2011.04.27 |
| 申请号 | CN200980118070.4 | 申请日期 | 2009.05.13 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | M·贝尔特拉姆;J·维格特;S·G·赫曼 |
| 分类号 | G06T11/00(2006.01)I | 主分类号 | G06T11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王英;刘炳胜 |
| 主权项 | 已经由此描述了优选实施例，现在对本发明做出如下权利主张：1.一种用于校正光子散射的方法，所述方法包括：使用光子源(108)生成穿过待成像的受检者(104)的光子；将光子探测器(110)移动到所述受检者(104)周围的多个成像位置，从而在每个成像位置记录图像投影(420)，其中，每幅图像投影(420)包括基本仅暴露于散射光子的散射区域(510)和暴露于一次光子和散射光子的成像区域(530)；针对低频下降校正每幅图像投影(420)的至少一部分；针对每个成像位置应用光子散射过程的模型以产生所述散射区域(510)对散射光子的所述暴露的估计(520)；将每幅图像投影(420)的所述散射区域(510)与所述散射区域(510)对散射光子的所述暴露的所述估计(520)进行比较；至少部分基于所述比较，修改所述模型以生成所述光子散射过程的经更新的模型；以及向每幅图像投影(420)的所述成像区域(530)应用所述经更新的模型以生成经散射校正的图像投影(470)。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||