| 发明名称 | 晶片清洗方法及载具 | ||
| 摘要 | 本发明涉及晶片清洗方法及载具。晶片清洗方法为：所述晶片包括具有图案的正面和与正面相对的背面，晶片正面朝下放置，该方法包括：用保护溶液自下而上对晶片正面进行喷洒并形成水膜，覆盖晶片上待保护的图案；用清洗溶液对晶片背面进行喷洒。保护溶液形成水膜覆盖在晶片的图案上，保护溶液具有阻止晶片上具有化学活性的物质被腐蚀的作用，能够保护晶片正面的图案。即使有少量清洗溶液从晶片背面流到正面，也能够被保护溶液稀释，降低清洗溶液的化学腐蚀性，保护晶片上图案的完整性。 | ||
| 申请公布号 | CN102019280A | 申请公布日期 | 2011.04.20 |
| 申请号 | CN200910195830.3 | 申请日期 | 2009.09.17 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 程继;张斐尧 |
| 分类号 | B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种晶片清洗方法，所述的晶片包括具有图案的正面和与正面相对的背面，晶片正面朝下放置，该方法包括：用保护溶液自下而上对晶片正面进行喷洒并形成水膜，覆盖晶片上待保护的图案；用清洗溶液对晶片背面进行喷洒。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江路18号 | ||