铟氧化物层的蚀刻剂组合物及使用它的蚀刻方法

摘要

一种用于除去铟氧化物层的蚀刻剂，包括主氧化剂硫酸，诸如H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4、H2O2和混合物A的辅助氧化剂，含有铵-基材料的蚀刻抑制剂，及水，其中所述混合物A由过一硫酸钾(2KHSO5)、硫酸氢钾(KHSO4)和硫酸钾(K2SO4)按5∶3∶2的比例混合得到。这种蚀刻剂可以除去铟氧化物层需要去除的部分，而不破坏光刻胶图案或铟氧化物层下面的各层。

主权项

一种用于除去铟氧化物层的蚀刻剂，其按蚀刻剂总重量计包含：1wt％～15wt％的硫酸；0.02wt％～5wt％的辅助氧化剂；0.01wt％～5wt％的蚀刻抑制剂；和余量的水，其中所述辅助氧化剂选自H3PO4、HNO3、CH3COOH、HClO4和混合物A，这里所述的混合物A是由过一硫酸钾、硫酸氢钾和硫酸钾按5∶3∶2的比例混合到一起得到的，其中所述蚀刻抑制剂包括含有铵离子的化合物。