| 发明名称 | 抽真空方法和存储介质 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抽真空方法和存储介质，该抽真空方法不会引起以水分为原因的问题，能够缩短抽真空的时间。在具有腔室(11)的真空处理装置(10)中，在对腔室(11)内抽真空时，通过APC阀(16)在一定的时间，例如数十秒的过程中，将腔室(11)内的压力维持为6.7～13.3×102Pa(5～10Torr)(压力维持)，接着，向腔室(11)内迅速导入加热气体，使腔室11内迅速升压至1.3～2.7×104Pa(100～200Torr)(迅速升压)，在时间T1到时间T2之间，多次重复压力维持和迅速升压。 | ||
| 申请公布号 | CN101320676B | 申请公布日期 | 2011.04.13 |
| 申请号 | CN200810099893.4 | 申请日期 | 2008.06.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 山涌纯;守屋刚;药师寺秀明;阿部和正 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;B01J3/03(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种抽真空方法，其是具有真空处理室的真空处理装置的抽真空方法，其特征在于，包括：在抽真空时，将所述真空处理室内的压力维持在大气压以下且6.7×102Pa(5Torr)以上的第一压力调整步骤；和接着所述第一压力调整步骤，将所述真空处理室内升压为比所述第一压力调整步骤的压力高且在大气压以下的压力的第二压力调整步骤，重复所述第一压力调整步骤和所述第二压力调整步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||