氧化处理设备

摘要

提供了一种氧化处理设备，其包括：真空室，其用于容纳待氧化的处理材料；汽化材料供给保持件，其上保持固态或液态的汽化材料，所述汽化材料供给保持件设置在所述真空室内，并且直接暴露在所述真空室内的气氛下；冷却器，其连接至所述汽化材料供给保持件，用于冷却所述汽化材料供给保持件；压力测量单元，其用于测量氧化蒸汽在所述真空室内的气氛下的压力；以及冷却器控制器，其响应所述压力测量单元测得的压力值，用于操作所述冷却器以控制所述汽化材料供给保持件的温度，使得所述真空室内的气氛下的氧化压力维持在预定值。

主权项

一种氧化处理设备，其包括：真空室(1)，其用于容纳待氧化的处理材料；汽化材料供给保持件(4)，其上保持固态或液态的汽化材料，所述汽化材料供给保持件设置在所述真空室内，并且直接暴露在所述真空室内的气氛下；冷却器(5)，其连接至所述汽化材料供给保持件，用于冷却所述汽化材料供给保持件；压力测量单元(10)，其用于测量氧化蒸汽在所述真空室内的气氛下的压力；以及冷却器控制器(7)，其响应所述压力测量单元测得的压力值，用于操作所述冷却器以控制所述汽化材料供给保持件的温度，使得所述真空室内的气氛下的氧化压力维持在预定值。