发明名称 |
图案化雾面转印膜结构 |
摘要 |
本发明涉及图案化雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使基底薄膜层具有凹凸粗糙的上表面;一遮蔽层,覆盖基底薄膜层的上表面的局部区域,具有光滑的上表面;一离型层,设置于基底薄膜层及该遮蔽层的上表面;一硬化膜层,设置于离型层的上表面;一饰纹层,设置于硬化膜层的上表面;以及一黏着膜层,设置于饰纹层的上表面。本发明的基底薄膜层的上方具有凹凸粗糙上表面,在基底薄膜层上方形成光面图案,因此邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,上方并分布有光面图案,在转印膜应用时达到图案化雾面效果,满足多样化的产品外观设计需求。 |
申请公布号 |
CN102009543A |
申请公布日期 |
2011.04.13 |
申请号 |
CN201010549859.X |
申请日期 |
2010.11.19 |
申请人 |
琨诘电子(昆山)有限公司 |
发明人 |
韩久康 |
分类号 |
B41M5/44(2006.01)I;B44C1/165(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/44(2006.01)I |
代理机构 |
南京纵横知识产权代理有限公司 32224 |
代理人 |
董建林;王寿刚 |
主权项 |
图案化雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面;一遮蔽层,覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域,该遮蔽层具有一光滑的上表面,以便于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案;一离型层,设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面;一硬化膜层,设置于该离型层的上表面;一饰纹层,设置于该硬化膜层的上表面;以及一黏着膜层,设置于该饰纹层的上表面。 |
地址 |
215321 江苏省苏州市昆山市张浦镇滨江北路358号 |