发明名称 图案化雾面转印膜结构
摘要 本发明涉及图案化雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使基底薄膜层具有凹凸粗糙的上表面;一遮蔽层,覆盖基底薄膜层的上表面的局部区域,具有光滑的上表面;一离型层,设置于基底薄膜层及该遮蔽层的上表面;一硬化膜层,设置于离型层的上表面;一饰纹层,设置于硬化膜层的上表面;以及一黏着膜层,设置于饰纹层的上表面。本发明的基底薄膜层的上方具有凹凸粗糙上表面,在基底薄膜层上方形成光面图案,因此邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面,上方并分布有光面图案,在转印膜应用时达到图案化雾面效果,满足多样化的产品外观设计需求。
申请公布号 CN102009543A 申请公布日期 2011.04.13
申请号 CN201010549859.X 申请日期 2010.11.19
申请人 琨诘电子(昆山)有限公司 发明人 韩久康
分类号 B41M5/44(2006.01)I;B44C1/165(2006.01)I 主分类号 B41M5/44(2006.01)I
代理机构 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人 董建林;王寿刚
主权项 图案化雾面转印膜结构,其特征在于包括:一基底薄膜层,包括由微粒子构成的抗眩光剂,使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面;一遮蔽层,覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域,该遮蔽层具有一光滑的上表面,以便于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案;一离型层,设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面;一硬化膜层,设置于该离型层的上表面;一饰纹层,设置于该硬化膜层的上表面;以及一黏着膜层,设置于该饰纹层的上表面。
地址 215321 江苏省苏州市昆山市张浦镇滨江北路358号