| 发明名称 | 涂布设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种涂布设备，包括狭缝喷嘴，其中，所述狭缝喷嘴的一侧设置有清洁喷嘴，所述清洁喷嘴朝向待涂布的基板，尾部连接有气体传输管道，所述清洁喷嘴与所述气体传输管道内部连通。通过清洁喷嘴对基板表面进行清洁，除掉了基板表面的浮游性PARTICLE以及类似于玻璃碎屑等杂物，避免了PARTICLE存在于PR或密封胶等涂布液下面造成的涂布不良发生，提高了PR或密封胶等涂布液涂布的平整度及均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN201783440U | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN201020536147.X | 申请日期 | 2010.09.17 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 焦宇;张学智;宋瑞涛 |
| 分类号 | B05C5/02(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I | 主分类号 | B05C5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 一种涂布设备，包括狭缝喷嘴，其特征在于，所述狭缝喷嘴的一侧设置有清洁喷嘴，所述清洁喷嘴朝向待涂布的基板，尾部连接有气体传输管道，所述清洁喷嘴与所述气体传输管道内部连通。 | ||
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||