| 发明名称 | 用于提高平坦化的聚合物抑制剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种包含抛光组分、表面活性剂和液体载体的化学机械抛光系统。本发明进一步提供一种用该抛光系统对基板进行化学机械抛光的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101184817B | 申请公布日期 | 2011.04.06 |
| 申请号 | CN200680019115.9 | 申请日期 | 2006.03.31 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 艾萨克·谢里安;周仁杰;史蒂文·格鲁宾;张剑 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I;B01F17/00(2006.01)I;C08G65/332(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光系统，其包含：(a)选自抛光垫、研磨剂及其组合的抛光组分，(b)包含至少一个具有聚合物链连接在其上的唑基的表面活性剂，其中该表面活性剂不是聚乙烯基咪唑，并且其中该表面活性剂不包含环酰亚胺基团或不同时包含侧链酰胺基和酯基，以及(c)液体载体。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||