| 发明名称 | 表面处理设备 | ||
| 摘要 | 一种能在包括电极的线路上产生谐振的表面处理设备。所述表面处理设备包括：容纳晶片(4)并且能够被抽真空的真空腔(1)；和被布置成在真空腔(1)中以彼此面对的上电极(3)和下电极(5)。所述表面处理设备还包括：通过匹配电路(17)给上电极(3)供给RF电力的RF电源(16)；和通过匹配电路(19)给下电极(5)供给RF电力的RF电源(18)。所述表面处理设备还包括：连接在下电极(5)和地之间的谐振调整单元(谐振电路)(60)；和将处理气体供给到真空腔(1)中的处理气体供给机构(未示出)。所述表面处理设备包括电气长度调整单元(50，70)，作为用于调整电极(3)和(5)的相位位置的电极相位位置调整装置。 | ||
| 申请公布号 | CN101568997B | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
| 申请号 | CN200880001131.4 | 申请日期 | 2008.07.04 |
| 申请人 | 佳能安内华股份有限公司 | 发明人 | 香村由纪;新野靖 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I;H03H7/38(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 康建忠 |
| 主权项 | 一种表面处理设备，其包括：其中容纳要被处理的基板并且被配置成被抽真空的真空腔，被布置在所述真空腔中以彼此面对的上电极和下电极，用于经由第一匹配电路向所述上电极供给第一RF电力的第一RF电力供给装置，用于经由第二匹配电路向所述下电极供给第二RF电力的第二RF电力供给装置，连接在所述下电极和地之间的谐振电路，以及用于将处理气体供给到所述真空腔中的处理气体供给装置，并且所述表面处理设备通过在所述上电极和所述下电极之间产生所述处理气体的等离子体而对所述基板的表面执行处理，所述表面处理设备包括：用于调整所述电极的相位位置的电极相位位置调整装置，其中，所述电极相位位置调整装置包含可变电容器或者可变电感器，并且被连接在所述上电极和第一匹配电路之间以及所述下电极和所述谐振电路之间的部分中的至少之一。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||