| 发明名称 | 电感器及其形成方法 | ||
| 摘要 | 一种电感器及其形成方法。其中电感器的形成方法，包括：在半导体衬底上依次间隔形成至少一层金属绝缘层和至少一层介质层；在金属绝缘层内形成贯穿金属绝缘层的电感线圈；在介质层内形成贯穿介质层且与电感线圈对应连接的连续沟槽，所述连续沟槽成螺旋状；在连续沟槽内填充满导电物质，形成连续沟槽线圈。本发明保证了电感器金属的厚度，减小电感器中电阻，提高了电感器的品质因子；同时能适应半导体器件集成度提高的需求。 | ||
| 申请公布号 | CN101996861A | 申请公布日期 | 2011.03.30 |
| 申请号 | CN200910194450.8 | 申请日期 | 2009.08.17 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 孔蔚然 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种电感器的形成方法，其特征在于，包括：在半导体衬底上依次间隔形成至少一层金属绝缘层和至少一层介质层；在金属绝缘层内形成贯穿金属绝缘层的电感线圈；在介质层内形成贯穿介质层且与电感线圈对应连接的连续沟槽，所述连续沟槽成螺旋状；在连续沟槽内填充满导电物质，形成连续沟槽线圈。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||