一种边缘曝光装置

摘要

本发明公开了一种边缘曝光装置，其照明光学系统由于设计的照明光纤数值孔径比较大，能在整个照明视场范围内提供较大的照明亮度，还能够满足照明物体被均匀照明。同时能够保证硅片边缘的照明光斑在最大视场处畸变＜0.01％且像面焦深在正负0.4毫米以内，在凹凸不平的硅片边缘或不同厚度的硅片边缘均得到均匀的照明效果，使该照明光学系统具有较强的工艺适应性并减少了后续设计的难度。

主权项

一种边缘曝光装置，其特征在于，包括：曝光光源；照明光纤；照明光学系统；照明光学系统安装支架；硅片；旋转平台；和总控单元；所述曝光光源通过照明光纤与照明光学系统相连；所述照明光学系统安装于所述照明光学系统安装支架上，包括：照明物镜组、视场光阑和成像物镜组，从所述照明光纤出射端到硅片面沿光轴依次排列所述照明物镜组、所述视场光阑和所述成像物镜组，其中所述成像物镜组包括前组成像物镜组、孔径光阑和后组成像物镜组，沿照明光传播方向依次排列所述前组成像物镜组、所述孔径光阑和所述后组成像物镜组，所述成像物镜组的结构为关于孔径光阑对称的双高斯结构；所述硅片放置于所述旋转平台上，并置于所述照明光学系统的照射下；所述总控单元控制所述曝光光源中快门的开启与关闭以及旋转平台的运动。