| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere in einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie. Gemäß einem Aspekt weist eine optische Anordnung ein Gehäuse (100, 200, 550, 780), in welchem wenigstens ein optisches Element angeordnet ist, und wenigstens ein innerhalb dieses Gehäuses angeordnetes Teilgehäuse (140, 240, 560, 790, 811, 823, 824, 831, 841) auf, das zumindest ein im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element auftreffendes Strahlenbündel umgibt, wobei der Innenraum des Teilgehäuses mit dem Außenraum des Teilgehäuses über wenigstens eine Öffnung in Verbindung steht und wobei im Bereich der Öffnung wenigstens ein Strömungslenkungsabschnitt ausgebildet ist, welcher eine vom Innenraum zum Außenraum des Teilgehäuses durch die Öffnung hindurch verlaufende Spülgasströmung wenigstens einmal in ihrer Richtung umlenkt.
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