发明名称 |
半导体封装结构及其形成方法 |
摘要 |
本发明提供一种半导体封装结构及其制造方法,该半导体封装结构包括:基板,该基板包括至少一个含有光感应元件的曝露区;覆盖层,用于区隔该曝露区与外部环境,该基板与该覆盖层其中之一为基底,另一个为顶部结构,以及坝状结构,形成于该基底上以形成空穴区,其中该坝状结构的顶部具有凹槽,该坝状结构利用粘着剂与该顶部结构接合,且该空穴区为该曝露区。本发明能够有效地减少粘着剂的损失及溢漏,从而降低封装缺陷以获得良好的半导体封装结构及合格率。 |
申请公布号 |
CN101431086B |
申请公布日期 |
2011.03.23 |
申请号 |
CN200810085230.7 |
申请日期 |
2008.03.10 |
申请人 |
采钰科技股份有限公司 |
发明人 |
陈朝祯;杨琳琪;周家琦;邓世杰 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I;H01L23/10(2006.01)I;H01L21/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
陈晨 |
主权项 |
一种半导体封装结构,包括:基板,包括至少一个含有光感应元件的曝露区;覆盖层,用于区隔该曝露区与外部环境,且该基板与覆盖层其中之一为基底,另一个为顶部结构;坝状结构,形成于该基底上以形成空穴区,其中该坝状结构的顶部具有凹槽,该坝状结构利用粘着剂与该顶部结构接合,且该空穴区对应该曝露区;以及栅状结构,形成于该基底之上,该栅状结构被该坝状结构所围绕,且该栅状结构围绕该曝露区。 |
地址 |
中国台湾新竹 |