| 发明名称 | 涂布的基底及其制备方法 | ||
| 摘要 | 含无机阻挡涂层和界面涂层的涂布的基底，其中该界面涂层包含具有与硅键合的辐射敏感的基团的固化产物；和制备该涂布的基底的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101313392B | 申请公布日期 | 2011.03.16 |
| 申请号 | CN200680043129.4 | 申请日期 | 2006.09.18 |
| 申请人 | 陶氏康宁公司;陶氏康宁东丽株式会社 | 发明人 | J·D·阿尔鲍;M·阿莫考;R·C·卡米莱蒂;D·乔伊;W·韦德纳;L·赞伯夫 |
| 分类号 | H01L21/312(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/312(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张钦 |
| 主权项 | 一种涂布的基底，它包括：基底；在基底上的无机阻挡涂层；和在无机阻挡涂层上的界面涂层，其中该界面涂层包含通式为(R1R32SiO1/2)a(R32SiO2/2)b(R3SiO3/2)c(SiO4/2)d(I)的有机硅树脂的固化产物，其中每一R1独立地为C1‑C10烃基、卤素取代的C1‑C10烃基或‑OR2，其中R2是C1‑C10烃基或卤素取代的C1‑C10烃基，每一R3独立地为R1、‑H或辐射敏感的基团，a为0‑0.95，b为0‑0.95，c为0‑1，d为0‑0.9，c+d＝0.1‑1，和a+b+c+d＝1，条件是该有机硅树脂每一分子平均具有至少两个与硅键合的辐射敏感的基团，其中该“辐射敏感的基团”是指在自由基或阳离子光引发剂存在下当暴露于波长为150‑800nm的辐射线下时形成反应性物质的基团。 | ||
| 地址 | 美国密执安 | ||