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发明名称
Dieletric layer in a semiconductor device and method of forming the same
摘要
申请公布号
KR101021178(B1)
申请公布日期
2011.03.15
申请号
KR20030096232
申请日期
2003.12.24
申请人
发明人
分类号
H01L21/31
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
地址
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