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一种循序波前感测器，其中包含：一波前扫描装置，其适用以在一第一维度中以第一位移以及在一第二维度中以第二位移，循序地平移一入射波前；一孔径，其经放置以截取并经设置以选择由该循序扫描装置所平移之该入射波前之一部份；一聚焦元件，其经设置以将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及其中该位置感测装置，系经设置成表示量自该平移入射波前之该部分之一参考点的二维平移，而该平移入射波前之该部分系由该聚焦元件所聚焦到该位置感测装置上。如申请专利范围第1项所述之循序波前感测器，其中该波前扫描装置进一步包含：一波前扫描器，其用以依一横向方向上循序地平移该入射波前。如申请专利范围第2项所述之循序波前感测器，其中该波前扫描器包含：一电动马达，其具有一轴(shaft)；以及一倾斜反射镜，其位在该轴上。如申请专利范围第3项所述之循序波前感测器，其中：该电动马达系一步进马达，并且该倾斜反射镜系按一固定角度所架置在该轴之末端上，因此当旋转该轴时，可选择绕于该入射波前之一轮状环的一定数量子波前。如申请专利范围第2项所述之循序波前感测器，其中该波前扫描器包含：一电动马达，其具有一轴；以及一非对称多面鼓型反射镜，其系架置于该轴上。如申请专利范围第1项所述之循序波前感测器，其中该位置感测装置系一具有四个光敏区域的四分(quad)侦测器。如申请专利范围第2项所述之循序波前感测器，其中该波前扫描器包含：一MEMS式扫描器。如申请专利范围第2项所述之循序波前感测器，其中该波前扫描器包含：一透光性光学光束扫描器。如申请专利范围第1项所述之循序波前感测器，其中：该孔径为一可变孔径，其用于控制该所选入射波前之部分的尺寸。一种用于侦测一入射波前之偏差的方法，该方法包含以下步骤：在一第一维度中以第一位移以及在一第二维度中以第二位移，循序地平移一入射波前；用一孔径来截取并选择一平移入射波前之一部份；将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及决定距该位置感测装置上之一参考点到在该位置感测装置上所聚焦之该入射波前之该部分间的二维偏差。如申请专利范围第10项所述之方法，进一步包含以下步骤：分析复数之二维偏差，以特征化描述该入射波前的偏差。如申请专利范围第11项所述之方法，其中该位置感测装置系一具有一参考点的四分侦测器，并且该决定该偏离之步骤进一步包含：计算出在该四分侦测器上所聚焦之该入射波前之该部分的二维偏差座标。如申请专利范围第12项所述之方法，其中该选择步骤进一步包含：循序地选择绕着该入射波前之一轮状环所布置的一平移入射波前之一部份，且其中该分析步骤进一步包含：决定该二维偏差的散射(scattering)情况。如申请专利范围第12项所述之方法，其中该选择步骤进一步包含：循序地选择绕着该入射波前之一轮状环所布置的一平移入射波前之一部份，且其中该分析步骤进一步包含：侦测在一聚焦部分之位置处的一符号变化，以表示一输入波形在一收敛波形与一发散波形之间的变化。如申请专利范围第10项所述之方法，进一步包含：脉冲或激发一产生该波前之光源。如申请专利范围第11项所述之方法，进一步包含：显示该等二维偏离，以在一显示装置上形成一样式。如申请专利范围第12项所述之方法，其中该位置感侧装置为一具有一参考点之四分侦测器，而其中显示该等偏离之步骤进一步包含：基于其所计算座标，而显示各个已聚焦部分。如申请专利范围第14项所述之方法，进一步包含：即时地在一显示装置上显示二维偏离。一种用于补偿一入射波前之偏差的方法，该方法包含：在一第一维度中以第一位移以及在一第二维度中以第二位移，循序地平移一入射波前；用一孔径来截取并选择一平移入射波前之一部份；将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及测量距该位置感测装置上之一参考点到在该位置感测装置上所聚焦之该入射波前之该聚焦部分间的二维偏差，以决定该入射波前的偏差；以及依据该入射波前之该聚焦部分的二维偏差构成一回馈准则(feedback criteria)。如申请专利范围第19项所述之方法，进一步包含：藉该回馈准则来控制一光学波前补偿装置，以补偿该入射波前的偏差。如申请专利范围第19项所述之方法，其中选择步骤进一步包含：绕着该入射波前之一轮型环而循序地选择该经平移入射波前之一些部分。如申请专利范围第21项所述之方法，进一步包含：即时地在一显示装置上显示该等二维偏离。如申请专利范围第21项所述之方法，其中该构成一回馈准则之步骤进一步包含：将偏离之散射最小化，而作为一更正该波前之失焦的准则。如申请专利范围第21项所述之方法，其中该构成一回馈准则之步骤进一步包含：侦测该一聚焦部分之偏离的符号变化，而作为表示一当面对着该波前之光学系统在成焦(in focus)状态时的一准则。如申请专利范围第21项所述之方法，其中该构成一回馈准则之步骤进一步包含：侦测一偏离形成样式(deflection-formed pattern)距一圆形的偏移，而作为更正该波前之散光的一回馈准则。如申请专利范围第21项所述之方法，其中该构成一回馈准则之步骤进一步包含：侦测一偏离形成样式之异常旋转，而作为更正一散光波前的一回馈准则。如申请专利范围第21项所述之方法，其中该构成一回馈准则之步骤进一步包含：侦测该偏离形成样式的椭圆形性，而作为进行散光校正作业的一回馈准则。一种波前补偿系统，其中包含：一波前扫描装置，其适用以在一第一维度中以第一位移以及在一第二维度中以第二位移，循序地平移一入射波前；一孔径，其经放置以截取并经设置以选择由该循序扫描装置所平移之该入射波前之一部份；一聚焦元件，其经设置以将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及其中该位置感测装置，系经设置成表示量自该平移入射波前之该部分之一参考点的二维平移，而该平移入射波前之该部分系由该聚焦元件所聚焦到该位置感测装置上；一波前偏差分析装置，其可依据该等经平移入射波前之循序所选部分的所侦得位置，而产生一回馈信号；以及一波前补偿装置，其用以在一封闭回路控制系统中，运用该回馈信号以启动补偿作业，藉此补偿该波前内的偏差。如申请专利范围第28项所述波前补偿系统，其中该波前补偿装置进一步包含：一轴向式(axially)驱动光学透镜，此者系用于将该波前聚焦。如申请专利范围第28项所述波前补偿系统，其中该波前补偿装置进一步包含：一旋转式(rotationally)驱动之散光校正元件。一种循序波前感测器，其至少包含：一波前扫描装置，其适用以循序地平移一入射波前，以便取样一轮型环；一孔径，其经放置以截取并经设置以选择由该波前扫描装置所平移之该入射波前之一部份；一聚焦元件，其经设置以将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及其中该位置感测装置，系经设置成表示量自该平移入射波前之该部分之一参考点的二维平移，而该平移入射波前之该部分系由该聚焦元件所聚焦到该位置感测装置上。一种循序波前感测器，其至少包含：一波前扫描装置，其适用以在一第一维度中以第一位移以及在一第二维度中以第二位移，循序地平移一入射波前；一可变孔径，其经放置以截取并经设置以选择由该波前扫描装置所平移之该入射波前之一部份，其中该孔径的尺寸为可变，使得该感测度及解析度可被控制；一聚焦元件，其经设置以将由该孔径所选择之该平移入射波前之该部分，聚焦到一位置感测装置上；以及其中该位置感测装置，系经设置成表示量自该平移入射波前之该部分之一参考点的二维平移，而该平移入射波前之该部分系由该聚焦元件所聚焦到该位置感测装置上。一种循序波前系统，其至少包含：一位置感测装置，其设置以表示一入射影像点之二维位移；一孔径，其设置成穿透过一波前之一部分，以投射一影像点到该位置感测装置上；以及一扫描装置，其设置成循序地导引一入射波前肢任何部分来穿透过该孔径。如申请专利范围第33项所述之系统，其中该扫描装置包含：一反射元件，其设置成按随机放射状以及方位角(azimuthal)的方向而步进。如申请专利范围第33项所述之系统，其中该扫描装置包含：一反射元件，其设置成按随机放射状以及方位角的方向持续地平移该入射波前。一种循序波前设备，其至少包含：一孔径，其延着一孔径平面所布置；一光学系统，其设置成复制一入射波前到该孔径平面上；一含括在该光学系统内之波前定位装置，其设置成用一所选二维行旅位移将该入射波前投射到该孔径平面上，使得该入射波前之被投影复制之任何部分可被选来穿透过该孔径：一聚焦元件，其设置成将被选来穿透过该孔径之该入射波前之被投影复制之部分，聚焦到一位置感测装置上；其中该位置感测装置，系经设置成表示量自该入射波前之该部分之一参考点的二维平移，而该平移入射波前之该部分系由该聚焦元件所聚焦到该位置感测装置上。 |
