| 发明名称 |
FIXTURE DRYING APPARATUS AND METHOD |
| 摘要 |
Wafer carrier washing and drying apparatus and method, especially useful for the semiconducting industry. |
| 申请公布号 |
KR20110022636(A) |
申请公布日期 |
2011.03.07 |
| 申请号 |
KR20107029440 |
申请日期 |
2009.05.28 |
| 申请人 |
POLY-FLOW ENGINEERING, LLC |
发明人 |
SCHNELLER CHRIS;ROBERTS SCOTT;WHITAKER KATHRYN;FERGUSON KEVIN;ISLAS STEPHEN;MOORE JOE;PUISSANT JIM |
| 分类号 |
H01L21/00;B08B3/00;H01L21/304;H01L21/673 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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