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发明名称 Method for forming isolation layer of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR101019694(B1) 申请公布日期 2011.03.07
申请号 KR20030081979 申请日期 2003.11.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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