发明名称 凸点发光二极管及其制造方法
摘要 本发明凸点发光二极管,凸点发光二极管芯片的电极上镀制凸点下金属,凸点下金属上部生长金属凸点;发光二极管芯片上方除电极以外的表面生长有钝化层;封装支架上制作有焊垫;凸点发光二极管的金属凸点倒装焊接在封装支架的焊垫上。其制作方法,包括以下步骤:制作钝化层,溅镀金属牺牲层,制作光刻胶掩膜,形成金属凸点,去除光刻胶掩膜,去除金属牺牲层,减薄、切分成为独立的芯片,并倒装焊于SMD支架上,形成倒装焊LED模组。本发明使发光二极管的芯片不须金线键合及固晶工艺,直接接通电路并组装在基板或金属支架上,实现封装小型化,多芯片模组及成功解决发光二极管的散热问题。
申请公布号 CN101350381B 申请公布日期 2011.03.02
申请号 CN200710029219.4 申请日期 2007.07.18
申请人 晶科电子(广州)有限公司 发明人 罗珮璁;姜志荣;陈海英;肖国伟;陈正豪
分类号 H01L33/00(2006.01)I;H01L23/485(2006.01)I;H01L23/488(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人 罗毅萍
主权项 一种凸点发光二极管,包括封装支架和凸点发光二极管芯片,其特征在于:凸点发光二极管芯片包括基底、晶体层、发光层、P电极和N电极,还包括一金属牺牲层,在基底上形成N型区域和P型区域晶体层,N型区域和P型区域之间为发光层,在晶体层的N型区域和P型区域分别形成P电极和N电极,P电极和N电极上填充凸点下金属,凸点下金属上部制造有金属凸点,金属牺牲层分别设置在P电极与凸点下金属之间以及N电极与凸点下金属之间;发光二极管芯片上方除电极以外的表面覆盖有钝化层;封装支架内设有用于焊接对应的凸点发光二极管的焊垫;凸点发光二极管芯片通过金属凸点倒装焊接在封装支架的焊垫上;所述发光二极管芯片的厚度小于200um,金属凸点高度大于1um。
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