| 主权项 |
一种引起反应物之反应的反应装置，其系由复数基板所组成，且该复数基板包含设有形成密闭区域的凹部的一对上基板以及下基板、与设有至少互相连通之开口部的复数中间基板，该反应装置系具备：反应装置主体部，由前述复数中间基板所层积接合而形成，且包含反应部，其形成有反应物流动的反应流路并引起反应物之反应；以及包围部，在前述上基板和下基板之间夹着前述层积的复数中间基板而层积接合而形成，并且具有支撑部，其透过前述复数基板的前述开口部与前述密闭区域连通而形成的密闭空间，除了前述反应装置主体部之一端部侧以外皆收容于内部，且透过前述反应装置主体部之前述一端部侧来支撑前述反应装置主体部；前述反应装置主体部系在前述一端部侧更具有复数流路，该流路系供给反应物至前述反应部，并且从该反应部排出反应产生物，前述包围部系在外表面具有由前述复数流路之端部所组成的供给排除部，前述供给排除部的前述复数流路系被设置于前述支撑部。如申请专利范围第1项之反应装置，其中，前述密闭空间内之气压系低于大气压。如申请专利范围第1项之反应装置，其中，前述反应装置主体部系具有：第1反应部，被设定在第1温度；第2反应部，被设定在比前述第1温度低的第2温度；以及连结部，具有复数流路，并连通前述第1反应部和前述第2反应部。如申请专利范围第3项之反应装置，其中，前述反应装置主体部的一端部侧系设有前述第2反应部之侧的端部。如申请专利范围第3项之反应装置，其中，前述反应装置主体部系更具有加热部，用以供给热至前述第1反应部，并将前述第1反应部设定在前述第1温度。如申请专利范围第5项之反应装置，其中，前述加热部系透过前述连结部而将前述第2反应部设定在前述第2温度。如申请专利范围第3项之反应装置，其中，前述反应装置主体部系更具有断热室，该断热室系藉由前述开口部而形成在前述第1反应部和前述第2反应部之间。如申请专利范围第3项之反应装置，其中，前述反应物系已气化的水及在组成上含有氢原子之燃料的混合气体，前述第1反应部系重组器，其引起前述反应物的重组反应，产生含有氢的气体来作为反应产生物，前述第2反应部系一氧化碳排除器，其供给前述反应产生物作为反应物，并选择性地氧化该反应产生物所包含的一氧化碳并排除之。一种电源系统，其产生电力并供给于负载，并具备：反应装置，其被供给有发电用燃料，并从发电用燃料产生含有氢的特定燃料成分；以及发电部，含有燃料电池，藉由使用前述特定燃料成分的电气化学反应来发出前述电力的燃料电池，前述反应装置，其系由复数基板所组成，且该复数基板包含设有形成密闭区域的凹部的一对上基板以及下基板、与设有至少互相连通之开口部的复数中间基板，该反应装置系具备：反应装置主体部，由前述复数中间基板所层积接合而形成，且包含反应部，其形成有反应物流动的反应流路并引起反应物之反应；以及包围部，在前述上基板和下基板之间夹着前述层积的复数中间基板而层积接合而形成，并且具有支撑部，其透过前述复数基板的前述开口部与前述密闭区域连通而形成的密闭空间，除了前述反应装置主体部之一端部侧以外皆收容于内部，且透过前述反应装置主体部之前述一端部侧来支撑前述反应装置主体部；前述反应装置的前述反应装置主体部系在前述一端部侧更具有复数流路，该流路系供给反应物至前述反应部，并且从该反应部排出反应产生物，前述包围部系在外表面具有由前述多数流路之端部所组成的供给排除部，前述供给排除部的前述复数流路系被设置于前述支撑部。如申请专利范围第9项之电源系统，其中，前述密闭空间内之气压系低于大气压。如申请专利范围第9项之电源系统，其中，前述反应装置之前述反应装置主体部系具有：第1反应部，被设定在第1温度；第2反应部，被设定在比前述第1温度低的第2温度；以及连结部，具有复数流路，并连通前述第1反应部和前述第2反应部。如申请专利范围第11项之电源系统，其中，前述反应装置之前述反应装置主体部的一端部侧系设有前述第2反应部之侧的端部。如申请专利范围第11项之电源系统，其中，前述反应装置主体部系更具有加热部，用以供给热至前述第1反应部，并将前述第1反应部设定在前述第1温度。如申请专利范围第13项之电源系统，其中，前述加热部系透过前述连结部而将前述第2反应部设定在前述第2温度。如申请专利范围第11项之电源系统，其中，前述反应装置主体部系更具有断热室，该断热室系藉由前述开口部而形成在前述第1反应部和前述第2反应部之间。如申请专利范围第11项之电源系统，其中，前述发电用燃料系已气化的水及在组成上含有氢原子之燃料的混合气体，前述第1反应部系重组器，其被供给有作为反应物的前述混合气体并引起重组反应，产生含有氢的气体来作为反应产生物，前述第2反应部系一氧化碳排除器，其供给前述反应产生物作为反应物，并选择性地氧化该反应产生物所包含的一氧化碳并排除之。 |
