曝光装置、曝光方法及组件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光装置、曝光方法及组件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向直线移动的期间，通过多点AF系统(90a、90b)检测在X轴方向以规定间隔所设定的多个检测点中晶片(W)表面的面位置信息，且通过沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片(W)上彼此不同位置的标记。即，由于晶片载台(晶片)仅直线通过多点AF系统的多个检测点的排列与多个对准系统，就结束多个检测点中晶片表面的面位置信息的检测与晶片上彼此不同位置的标记的检测，因此与毫无关连地进行标记的检测动作与面位置信息(聚焦信息)的检测动作的情形相比较，能提升处理能力。

主权项

一种用能量束使保持在移动体的物体曝光的曝光装置，所述移动体可在规定平面内彼此正交的第1及第2方向移动，所述曝光装置的特征在于具备：标记检测系统，具有在上述第2方向位置不同的多个检测区域；以及基准构件，形成有可由上述标记检测系统同时检测的多个基准标记，且可夹着上述能量束的照射位置，在上述第1方向上从上述多个检测区域的相反侧移动至上述多个检测区域的位置。