发明名称 氧化锡铟靶,其制备方法和用其制备的透明电极
摘要 本发明提供包含相对铟原子约0.001原子%至约10原子%的钙的氧化锡铟(ITO)靶,和由ITO靶制备的显示器用ITO透明电极。一种制备所述ITO靶的方法,所述方法包括:通过将氧化铟粉末、氧化锡粉末和含钙化合物粉末混合制备淤浆;通过研磨并且干燥所述淤浆,将所述淤浆粒化以制备粒化粉末;使所述粒化粉末成形以形成成形体;和将所述成形体烧结。通过所述方法制备的含钙ITO靶可以减少在溅射过程中产生的结节数量和电弧次数,从而生长出能够长时间使用的膜。
申请公布号 CN101231431B 申请公布日期 2011.02.23
申请号 CN200710087153.4 申请日期 2007.03.22
申请人 三星康宁精密素材株式会社 发明人 郑俊熙;崔畯皓;李相彻;姜信赫
分类号 G02F1/1343(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)I 主分类号 G02F1/1343(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王旭
主权项 一种制备氧化锡铟(ITO)靶的方法,所述方法包括:通过将氧化铟粉末、氧化锡粉末和碳酸钙粉末混合制备淤浆,其中钙的比率相对铟原子对应约0.001原子%至约10原子%;通过研磨和干燥所述淤浆,将所述淤浆粒化以制备粒化粉末;使所述粒化粉末成形以形成成形体;和将所述成形体烧结。
地址 韩国庆尚北道龟尾市