发明名称 |
氧化锡铟靶,其制备方法和用其制备的透明电极 |
摘要 |
本发明提供包含相对铟原子约0.001原子%至约10原子%的钙的氧化锡铟(ITO)靶,和由ITO靶制备的显示器用ITO透明电极。一种制备所述ITO靶的方法,所述方法包括:通过将氧化铟粉末、氧化锡粉末和含钙化合物粉末混合制备淤浆;通过研磨并且干燥所述淤浆,将所述淤浆粒化以制备粒化粉末;使所述粒化粉末成形以形成成形体;和将所述成形体烧结。通过所述方法制备的含钙ITO靶可以减少在溅射过程中产生的结节数量和电弧次数,从而生长出能够长时间使用的膜。 |
申请公布号 |
CN101231431B |
申请公布日期 |
2011.02.23 |
申请号 |
CN200710087153.4 |
申请日期 |
2007.03.22 |
申请人 |
三星康宁精密素材株式会社 |
发明人 |
郑俊熙;崔畯皓;李相彻;姜信赫 |
分类号 |
G02F1/1343(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1343(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王旭 |
主权项 |
一种制备氧化锡铟(ITO)靶的方法,所述方法包括:通过将氧化铟粉末、氧化锡粉末和碳酸钙粉末混合制备淤浆,其中钙的比率相对铟原子对应约0.001原子%至约10原子%;通过研磨和干燥所述淤浆,将所述淤浆粒化以制备粒化粉末;使所述粒化粉末成形以形成成形体;和将所述成形体烧结。 |
地址 |
韩国庆尚北道龟尾市 |