发明名称 半导体装置的副产品收集装置
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.02.21
申请号 TW096115630 申请日期 2007.05.02
申请人 未来宝股份有限公司 发明人 赵宰孝;洪正义;金泰佑;黄仁文
分类号 B01D46/28 主分类号 B01D46/28
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种用于收集反应副产品之装置,所述反应副产品含于在处理腔室处产生的排气中,所述装置包括:外壳,其具有气体入口埠以及气体出口埠;以及捕集模组,其安装于所述外壳内部并具有第一板,所述第一板经弯曲或倾斜以导引排气以弯曲型式流动,其中所述捕集模组之所述第一板经径向且倾斜地予以排列,其中所述捕集模组包括:第一捕集部分,其中安装有所述第一板;以及第二捕集部分,其中安装有第二板,所述第二板以多阶形式排列、以预定间隔隔开,并且具有提供作为通道之多个开口,所述排气流过所述通道。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述捕集模组更包括多个第二板,所述多个第二板安装于所述外壳内部并且经成形以导引所述排气以Z字形流动。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一捕集部分之长度比所述第二捕集部分之长度长。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第二捕集部分与所述第一捕集部分相比,设在更邻近所述气体出口埠之位置。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板具有接触所述外壳之内表面的外侧表面,且有切割部分形成于所述第一板之所述外侧表面中以允许所述排气在所述外壳之所述内表面与所述第一板之所述外侧表面之间流动。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中多个通孔形成于所述第一板中。如申请专利范围第6项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述通孔之大小随着所述通孔远离所述气体入口埠而减小。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述捕集模组更包括:内管,其具有内部通道,排气流过所述内部通道,其中所述第一板以及所述第二板固定于所述内管之外部周边上;以及第三捕集部分,其安装于所述内管之所述内部通道中以收集流过所述内部通道之所述排气的反应副产品。如申请专利范围第8项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第三捕集部分包括:支撑杆,其垂直定位于所述内管之所述内部通道的中心处;第三板,其倾斜地安装于所述支撑杆;以及第四板,其水平地安装于所述支撑杆。如申请专利范围第8项所述之用于收集反应副产品之装置,更包括阻挡部件,所述阻挡部件用于防止自所述捕集模组落下之粉末块通过所述气体出口埠排出。如申请专利范围第10项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述阻挡部件包括阻挡门槛,所述阻挡门槛在面向所述外壳内部之方向上自所述外壳的具备所述气体出口埠之一侧突出。如申请专利范围第11项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述阻挡部件更包括位于所述气体出口埠上方的阻挡板。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述外壳包括:圆柱形主体,其上部以及下部开放;上部板,其耦接至所述主体之所述上部并具有所述气体入口埠;以及下部板,其耦接至所述主体之所述下部并具有所述气体出口埠。如申请专利范围第8项所述之用于收集反应副产品之装置,更包括用于冷却流过所述外壳之排气的冷却部件。如申请专利范围第14项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述冷却部件包括:第一冷却部分,其用于冷却所述外壳;以及第二冷却部分,其用于冷却所述捕集模组之所述内管,其中所述第一板以及所述第二板与所述外壳交换热量,且所述内管由所述冷却部件予以冷却。如申请专利范围第15项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一冷却部分包括设于所述外壳之壁上的第一冷却管线,且所述第二冷却部分包括设于所述内管之壁上的第二冷却管线。如申请专利范围第1项所述之用于收集反应副产品之装置,更包括用于加热引入至所述外壳中之排气的加热元件。一种用于收集反应副产品之装置,所述反应副产品含于在处理腔室处产生的排气中,所述装置包括:外壳,其具有气体入口埠以及气体出口埠;第一捕集部分,其设于所述外壳内部,其中用于收集反应副产品之第一板安装于所述第一捕集部分之表面上;第二捕集部分,其设于所述外壳内部,其中用于收集反应副产品之第二板安装于所述第二捕集部分之表面上,其中所述第一板以及所述第二板经成形以导引排气在不同方向上流动。如申请专利范围第18项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板中之每一者具有倾斜形状以导引所述排气以弯曲型式流动,所述第二板中之每一者经安置垂直与所述外壳之纵向方向,所述第二板以预定间隔隔开从而彼此面对,且开口形成于所述第二板中,使得气体以Z字形流动。如申请专利范围第19项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板中之每一者经安装为具有与所述外壳之所述纵向方向为50°至60°的倾斜范围。如申请专利范围第19项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板的形状可使当排气在所述外壳之纵向方向上流动时摆脱垂直流动。如申请专利范围第19项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板的形状可使排气在所述外壳之所述纵向方向上流动时以弯曲型式流动。一种用于收集反应副产品之装置,所述反应副产品含于在处理腔室处产生的排气中,所述装置包括:外壳,其具有气体入口埠、气体出口埠以及内部通道,所述排气流过所述内部通道;冷却塔,其安装于所述外壳内部;以及捕集模组,其提供于所述外壳内部并具有多个板以在所述板之表面上收集反应副产品;其中所述冷却塔形成管形状,而将所述内部通道分割为外部环形空间以及内部中心空间;其中所述多个板包括第一板、第二板及第三板,所述第一板及第二板安装于所述外部环形空间中并连接于所述冷却塔之外表面,且经成形以导引排气在不同方向上流动,所述第三板安装于所述冷却塔之所述中心空间中以收集流过所述中心空间之排气之反应副产品。如申请专利范围第23项所述之用于收集反应副产品之装置,更包括用于冷却所述外壳以及所述冷却塔的冷却部件。如申请专利范围第24项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述多个板邻接于所述外壳之内表面以及所述冷却塔之外表面上。如申请专利范围第24项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述捕集模组包括:第一捕集部分,其中安装有所述第一板;以及第二捕集部分,其中安装有所述第二板,其中所述第一板为弯曲的或平坦的以导引所述排气以弯曲型式流动,且所述第二板具有导引所述排气以Z字形流动的形状。如申请专利范围第26项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述第一板经径向且倾斜地排列。如申请专利范围第24项所述之用于收集反应副产品之装置,更包括阻挡部件,所述阻挡部件用于防止自所述捕集模组落下之粉末块通过所述气体出口埠排出。如申请专利范围第24项所述之用于收集反应副产品之装置,其中所述冷却部件包括:第一冷却部分,其具有配设于所述外壳之壁上的第一冷却管线;以及第二冷却部分,其具有配设于所述冷却塔之壁上的第二冷却管线,其中所述板与所述外壳交换热量所述冷却塔由所述冷却部件予以冷却。
地址 南韩