发明名称 |
记录设备和相调制器件 |
摘要 |
本发明提供一种对全息记录介质至少进行记录的记录设备,其包括:光发射装置,用于发射将被照射到设置于预定位置处的该全息记录介质的光;特定光调制装置,配置为能够通过以像素为单位对入射光进行光强度调制而产生将被照射到所述全息记录介质的参考光和信号光;相调制装置,用于对来自所述特定光调制装置的照射光进行相调制;以及光学系统,配置来引导从所述光发射装置发射的光通过所述特定光调制装置和所述相调制装置到达所述全息记录介质。 |
申请公布号 |
CN101202061B |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN200710308189.0 |
申请日期 |
2007.10.08 |
申请人 |
索尼株式会社 |
发明人 |
福本敦;杉木美喜雄;田中健二;原雅明;广冈和幸 |
分类号 |
G11B7/0065(2006.01)I;G03H1/12(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/0065(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
马高平 |
主权项 |
一种对全息记录介质至少进行记录的记录设备,包括:光发射装置,用于发射将被照射到设置于预定位置处的全息记录介质的光;特定光调制装置,配置为能够通过以像素为单位对入射光进行光强度调制而产生将被照射到所述全息记录介质的参考光和信号光;相调制装置,用于对来自所述特定光调制装置的照射光进行相调制,所述相调制装置具有第一相掩模图案和第二相掩模图案,其中向所述参考光提供离散相结构的第一相掩模图案形成在来自所述特定光调制装置的所述参考光入射的参考光区域,向所述信号光提供连续相结构的第二相掩模图案形成在所述信号光入射的信号光区域,以使得即使当形成在信号光区域中的第二相掩模图案与特定光调制装置的各像素之间的位置关系偏离先前确定的位置关系,也能防止信号光的质量恶化;以及光学系统,配置来引导从所述光发射装置发射的光通过所述特定光调制装置和所述相调制装置到达所述全息记录介质。 |
地址 |
日本东京都 |